散射更低
散射强度与波长成反比，更长波长在生物组织中传播更远，成像深度从百微米级提升到毫米级。
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以近红外二区（NIR-II）成像为核心技术平台，致力于打造全国产高端光学仪器。
胜拓光电（ShengTuo Optoelectronics）以近红外二区（NIR-II）成像为核心技术平台，致力于打造全国产高端光学仪器。公司产品覆盖三大整机系统与 NIR-II 探针耗材，形成「光路 · 整机 · 耗材」全线自研体系。
公司技术源自国内 NIR-II 窗口定义者研究团队的方法学积累：NIR-II 近红外二区宽谱 窗口标准、三大整机架构方法学与灵长类成像先例，共同构成难以复制的技术壁垒。
核心团队
由首席科学家与创始人共同掌舵；完整的学术与科研背书详见下方板块。
学术与科研背书
从国家重点实验室的方法学研究，到全球首款 NIR-II 活体显微系统与临床验证，形成「学术 — 工程 — 临床」的完整转化链路。
技术底座
波长从可见光与 NIR-I 延伸到 近红外二区宽谱，散射、吸收与自发荧光三个维度同时改善，带来穿透深度与信背比的跃升。
散射强度与波长成反比，更长波长在生物组织中传播更远，成像深度从百微米级提升到毫米级。
生物组织自发荧光主要集中在可见光区，NIR-II 窗口内背景显著下降，深层信背比可达 13 以上（NIR-I 通常 ≤2）。
从整机光路、探测器到探针试剂与配套耗材全线自研，设备与试剂协同迭代，不依赖单一外购环节。